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X荧光镀层测厚仪物理意义及应用
点击次数:1024 更新时间:2016-05-25
X荧光镀层测厚仪测量模式用于:
单、双及三层镀层系统;
双元及三元合金镀层的分析和厚度测量;
双层镀层,其中合金镀层在外层或在中间层的厚度测量和分析(两层的厚度和合金成分都能被测量);
能分析多达四种金属成分的合金;电镀液中金属离子含量;
可编程的应用项图标,用于快速应用项选择;
完整的统计功能,SPC图,标准的概率图和矩形图评估;
报告生成,数据输出;
语言可选择:英语,德语,法语,意大利语,西班牙语,及中文;
菜单中的某些选择项可授权使用;
注:基础WinFTM软件版本不允许创建新的应用,所要求的应用不得不在定货时明确。当校准标准块与仪器一起定购时,可在交货前预先创建应用。若没有定购校准标准块,则只可使用已预装的*无需标准块的测量应用。
可选择的Super WinFTM软件(订货号602-950)提供了以下的附加功能:
可随意创建测量应用;
可把每种测量模式的测量范围设定为想要的理论上的测量精度;
快速的频谱分析以决定合金成分;
 
X荧光镀层测厚仪物理意义:
X射线是电磁波谱中的某特定波长范围内的电磁波,其特性通常用能量(单位:千电子伏特,keV)和波长(单位:钠米,nm)描述。X射线荧光是原子内产生变化所致的现象。一个稳定的原子结构由原子核及核外电子组成。这些核外电子围绕着原子核按不同轨道运转,它们按不同的能量分布在不同的电子壳层:分布在同一壳层的电子具有相同的能量。
当具有高能量的入射(一次)X射线与原子发生碰撞时,会打破原子结构的稳定性。处于低能量电子壳层(如:K层)的电子更容易被激发而从原子中逐放出来,电子的逐放会导致该电子壳层出现相应的电子空位。这时处于高能量电子壳层的电子(如:L层)会跃迁到该低能量电子壳层来补充相应的电子空位。由于不同电子壳层之间存在着能量差距,这些能量上的差以二次X射线的形式释放出来,不同的元素所释放出来的二次X射线具有特定的能量特性。仪器通过探测不同的元素所释放出来的二次X射线具有特定的能量特性,进行分析计算得到各镀层厚度,这一个过程就是我们所说的X射线荧光测厚。
应用
X荧光镀层测厚仪有着快速,准确,非破坏,非接触,多层合金测量,高生产力,高再现性等优点的情况下进行表面镀层厚度的测量,从质量管理到成本节约有着广泛的应用
 
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